國產(chǎn)電子束光刻機實現(xiàn)自主可控，是實現(xiàn)我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實驗室開展的全自主電子束光刻機整機的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目取得重大進展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實現(xiàn)了電子束光刻機整機的自主可控，標志著國產(chǎn)電子束光刻機研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化邁出關(guān)鍵一步。

電子束光刻是利用聚焦電子束對某些高分子聚合物（電子束光刻膠）進行曝光并通過顯影獲得圖形的過程。而產(chǎn)生聚焦電子束并讓聚焦電子束按照設(shè)定的圖形掃描的儀器就叫做電子束光刻機。它是推動我們當前新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域的重要手段之一。此前，全球電子束光刻機市場高度集中，主要由美日企業(yè)壟斷，我國尚未掌握該領(lǐng)域核心技術(shù)，裝備長期依賴進口。

為實現(xiàn)電子束光刻機的自主可控，澤攸科技多年來持續(xù)積累電子光學(xué)、微納技術(shù)、高壓源及電子源技術(shù)、真空系統(tǒng)、自動控制、數(shù)字圖像處理等多學(xué)科交叉核心技術(shù)，構(gòu)建了完整的技術(shù)體系，并推出了臺式掃描電鏡等多款電子束產(chǎn)品。2023年3月，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實驗室共同投資2400萬元，成立聯(lián)合工程中心，目標是打造集科研與產(chǎn)業(yè)化為一體的電子束裝備技術(shù)創(chuàng)新基地。通過深入開展電子束與新材料交叉領(lǐng)域的前沿技術(shù)研發(fā)，實現(xiàn)關(guān)鍵裝備和共性技術(shù)的自主可控，切實提升我國在電子束加工與制備領(lǐng)域的整體創(chuàng)新能力和產(chǎn)業(yè)競爭力。

目前，澤攸科技已基于自主研制的掃描電鏡主機，完成電子束光刻機工程樣機研制，并開展功能驗證工作。通過對測試樣片的曝光生產(chǎn)，可以繪制出高分辨率的復(fù)雜圖形，達到先進水平。該成果標志著澤攸科技在電子束光刻機關(guān)鍵技術(shù)和整機方面的自主創(chuàng)新能力獲得重大提升。下一步，澤攸科技將持續(xù)完善電子束光刻機的性能指標，使其達到批量應(yīng)用及產(chǎn)業(yè)化的要求。

相信在公司技術(shù)團隊的不懈努力下，澤攸科技自主研發(fā)的電子束光刻機整機必將加速實現(xiàn)量產(chǎn)和商業(yè)化應(yīng)用。這不僅將大幅降低國內(nèi)芯片制造的裝備成本，還將打破國外企業(yè)的技術(shù)壁壘，使我國擁有自主可控的電子束光刻機技術(shù)，推動國產(chǎn)替代，切實保障國家信息安全。

以下是電子束光刻機部分應(yīng)用案例：

以上就是澤攸科技小編對澤攸科技完全自主研制的電子束光刻機取得階段性成果的內(nèi)容分享。